Мощные лазеры открывают новые горизонты, а первый в мире EUV-лазер вступает в этап калибровки и отладки.

В разных отраслях существуют разные определения того, что означает «высокая мощность» для лазеров. Например, высокая мощность, необходимая для промышленного применения, значительно отличается от высокой мощности, требуемой в биомедицинской сфере. Характерные свойства высокой мощности также варьируются в зависимости от области применения. В исследованиях в области чистой энергии приоритет отдается точности и контролю при экстремальных уровнях энергии, тогда как в военной и оборонной сферах основное внимание уделяется качеству луча и адаптируемости к условиям окружающей среды.
Промышленный спрос
Предложение и рыночный спрос являются основными движущими силами развития промышленных лазеров. Такие отрасли, как производство полупроводников и автомобилестроение, стремятся к повышению точности и эффективности, что обусловливает необходимость разработчиков и производителей поставлять всё более совершенные лазеры.

Этот спрос также определяет эксплуатационные показатели лазерных оптических компонентов. Производители этих компонентов стремятся выпускать более точные, мощные и долговечные оптические устройства.
Стефан Вандендриссче, старший директор подразделения Edmund Laser Optics, отметил, что всякий раз, когда производители промышленных лазеров готовятся к выпуску продукции с более высокой мощностью, вновь возникают привычные вопросы, такие как: “Что можно сделать с такой высокой мощностью?” Как только лазерные системы повышенной мощности появятся на рынке, клиенты из промышленной сферы быстро обнаружат новые области применения, которые открываются благодаря новым уровням мощности.
“Хотя некоторые стандартные технологии, например в диапазоне мощностей от 1 кВт до 12 кВт, достигли своих пределов, в том числе из-за требований производства, существуют и другие факторы, обусловливающие потребность в новых лазерах высокой мощности”, — отметила Трейси Рыба, старший менеджер по лазерной продукции компании TRUMPF North America.

Прогресс в разработке первого в мире EUV
Недавно созданное подразделение Intel, занимающееся производством микросхем, сообщило о завершении сборки первого в мире коммерческого сканера для литографии в экстремальном ультрафиолетовом диапазоне с высокой числовой апертурой, что стало важной вехой для индустрии производства микросхем. Новое устройство является самым передовым оборудованием для производства полупроводников из доступных на сегодняшний день и в будущем позволит выпускать более совершенные и мощные компьютерные микросхемы.
Оборудование TWINSCAN EXE: 5000 High NA EUV было собрано на научно-исследовательском центре Intel в Хиллсборо, штат Орегон, и в настоящее время проходит этап калибровки. По завершении этого этапа он сыграет ключевую роль в реализации будущей технологической дорожной карты Intel в сфере контрактного производства. Компания заявила, что данное устройство значительно улучшает разрешение и масштабирование элементов микросхем следующего поколения за счет изменения оптической конструкции, используемой для проецирования напечатанных изображений на кремниевые пластины.

Пока эксперты Intel заняты настройкой нового станка, компания уже планирует логистику поставки следующего оборудования — системы TWINSCAN EXE:5200B. Ожидается, что эта система позволит ещё больше повысить производительность и сможет травить более 200 пластин в час. Однако Intel, возможно, не удастся выиграть гонку за право первой выпустить на рынок оборудование EUV следующего поколения.
Ранее компании IBM, Micron Technology и ряд других организаций объявили о намерении построить передовую научно-исследовательскую лабораторию по полупроводникам, которая будет оснащена такой же системой. Кроме того, они планируют приобрести систему Twinscan EXE:5200 для предполагаемого технологического процесса производства микросхем с технологическим процессом 2 нм, который является более передовым, чем 14A от Intel, однако пока неясно, когда он будет запущен в производство.